紫外光譜儀是一款針對(duì)紫外光/可見光測(cè)量應(yīng)用的預(yù)配置的微型光譜儀，這款只有手掌大小的高性能光譜儀波長(zhǎng)范圍達(dá)到200-850納米，為您的測(cè)量帶來更大的靈活性，依靠模塊化設(shè)計(jì)，是物質(zhì)中分子吸收200-800nm光譜區(qū)內(nèi)的光而產(chǎn)生的，這種分子吸收光譜產(chǎn)生于價(jià)電子和分子軌道上的電子在電子能級(jí)躍遷原子或分子中的電子，總是處在某一種運(yùn)動(dòng)狀態(tài)之中，每一種狀態(tài)都具有一定的能量，屬于一定的能級(jí)。
 

　　這些電子由于各種原因如受光、熱、電的激發(fā)而從一個(gè)能級(jí)轉(zhuǎn)到另一個(gè)能級(jí)，稱為躍遷。當(dāng)這些電子吸收了外來輻射的能量就從一個(gè)能量較低的能級(jí)躍遷到一個(gè)能量較高的能級(jí)。因此，每一躍遷都對(duì)應(yīng)著吸收一定的能量輻射。
 

　　紫外光譜儀具有不同分子結(jié)構(gòu)的各種物質(zhì)，有對(duì)電磁輻射顯示選擇吸收的特性，吸光光度法就是基于這種物質(zhì)對(duì)電磁輻射的選擇性吸收的特性而建立起來的，它屬于分子吸收光譜，是通過對(duì)紫外光吸收的強(qiáng)弱判斷化合物種類和含量，對(duì)紫外光有吸收的一般都是些特殊的離子，結(jié)果或者金屬離子。
 

　　如何巧妙的避免紫外光譜儀誤差呢？雖然準(zhǔn)確性高，但由于很多因素的影響導(dǎo)致存在一定的誤差，下面請(qǐng)聽小編從以下幾個(gè)方面進(jìn)行分析。
 

　　一、系統(tǒng)誤差的來源
 

　　1.標(biāo)樣和試樣中的含量和化學(xué)組成不*相同時(shí)，可能引起基體線和分析線的強(qiáng)度改變，從而引入誤差。
 

　　2.標(biāo)樣和試樣的物理性能不*相同時(shí)，激發(fā)的特征譜線會(huì)有差別從而產(chǎn)生系統(tǒng)誤差。
 

　　3.澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結(jié)構(gòu)不相同時(shí)，測(cè)出的數(shù)據(jù)會(huì)有所差別。
 

　　4.未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時(shí)，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。
 

　　5.要消除系統(tǒng)誤差，必須嚴(yán)格按照標(biāo)準(zhǔn)樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差，就需要采用化學(xué)分析方法分析多次校對(duì)結(jié)果。
 

　　二、偶然誤差的來源
 

　　與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差。因?yàn)楣怆姽庾V分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結(jié)構(gòu)的不均勻性，導(dǎo)致不同部位的分析結(jié)果不同而產(chǎn)生偶然誤差。主要原因如下：
 

　　1.熔煉過程中帶入夾雜物，產(chǎn)生的偏析等造成樣品元素分布不均。
 

　　2.試樣的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼等。
 

　　3.磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱、試樣磨面放置時(shí)間太長(zhǎng)和壓上指紋等因素。
 

　　4.要減少偶然誤差，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷，也可以重復(fù)多次分析來降低分析誤差。
 

　　三、其他因素誤差
 

　　1.氬氣不純。當(dāng)氬氣中含有氧和水蒸氣時(shí)，會(huì)使激發(fā)斑點(diǎn)變壞。如果氬氣管道與電極架有污染物排不出去，分析結(jié)果會(huì)變差。
 

　　2.紫外光譜儀室內(nèi)溫度的升高會(huì)增加光電倍增管的暗電流，降低信噪比。濕度大容易導(dǎo)致高壓元件發(fā)生漏電、放電現(xiàn)象，使分析結(jié)果不穩(wěn)定。